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第三百九十六章 投影曝光（第1页）

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如果没有周硕的干扰，从0.35微米工艺向0.25微米工艺过渡的光刻机，真实历史上实际使用的是步进重复投影曝光技术。

在0.35微米工艺及之前，光刻机光学掩膜版的制作要求是非常高的。基本上和生产的芯片，是一对一全比例设计。

掩膜版投射的镜头需要与硅片进行完全的接触，接触中甚至要抽成真空状态。然后光源系统的激光打到掩膜版上，投影部分的光刻胶就会被蒸发掉。把这样的晶圆放到蚀刻机里面，化学药品就会将没有覆盖光刻胶的部分腐蚀掉，然后再把晶圆转移到离子注入机上进行离子注入……

把镜头和晶圆直接接触，或者两者之间只有小缝隙的接近，这种光刻机被称之为接触、接近式曝光技术。因为使用这种技术的光刻机镜头要和晶圆进行完全的接触，对掩膜版、镜头、晶圆和光刻胶都有非常高的要求。

这种设计自有其好的一面，对镜头精度要求低，系统复杂度低，以及成像质量高之类的优点。但也有其致命的缺陷，0.35微米工艺基本上就是其经济性的极限了。

0.25微米工艺光刻机想要延续接触式曝光，整个系统需要的机械精密程度，掩膜版的成本、掩膜版和硅片的接触紧密度，系统的集成难度都开始了几何级数的增加。

于是在原本的历史上，尼康也好、阿斯麦也好都选择了另一条路，那就是非接触式曝光。也就是投影式曝光技术。

这种技术说白了，就是好像平常用放大镜聚集太阳光一样。用棱镜系统将光源从远处投射到硅片上。这样经过几次聚焦、折射、再聚焦，最终投影到硅片上的图形比掩膜版甚至可以小上4倍。

对于沉浸式光刻技术而言。投影式曝光技术最大的好处就是——避免了使用防水光刻胶的高成本。

其实说起来，周硕现在真的很想哈哈大笑一下，以发泄自己内心的畅快！

日本人费尽心思弄到了防水光刻胶的技术，原本他们这个技术至少是可以吃一代光刻机没问题的。历史上，早期沉浸式光刻机系统也是使用防水光刻胶的接近式光刻机，直到投影式光刻机成为主流防水光刻胶才退出了历史舞台。

他现在拿出来的这份文件，自然就是投影式光刻机的技术专利，可以说这项技术一出防水光刻胶就是一个废物了！

鹤田刚开始还不以为然，在他的心里早就已经认为泛翰集团是砧板上的鱼肉。哪里还有什么翻盘的机会？

这个年代里，日本人不仅是骄傲的，而且也非常有骄傲的资本。整个九十年代，世界十大晶圆厂，日本人占了半数还多！

在鹤田和所有日本人看来，中国人能拿出沉浸式光刻技术纯粹就是瞎猫碰死耗子，反正搞举国体制不正是共产国际的强项嘛！

除了沉浸式光刻技术这种独辟蹊径的取巧之道，日本人绝不相信泛翰集团还能在其他方向产生突破，他们手里的底牌也就是仅此而已。

然而事实证明。中国人比他们想象的要强大的多。这对鹤田来说，不啻是一个巨大的嘲讽。

以技术先进为傲的尼康，竟然会屡屡失败在一个小小的中国企业面前！这tm的不科学啊！

鹤田的脸色随着他看完整个授权专利证书之后，就黑的好像一块锅底的黑炭了。任谁在看到自家花费巨资研发出来的技术。转眼就被人给淘汰掉了，心里肯定都会恨不得把对方给咬死。

可惜，鹤田注定是不敢咬死人的。

步进投影技术不仅能摆脱对防水光刻胶的依赖。更重要的是只要稍作优化，立刻就又能把光刻机制程技术向前推进一个时代……

你们要不要这么逆天？！

鹤田很想这么呐喊一声。如果让泛翰集团这么肆无忌惮的发展下去，说不定连摩尔定律都要被打破了。

从0.35微米工艺都没普及的程度。直接跳到0.18微米，可以想象这会在市场上掀起怎样的腥风血雨。

鹤田牙缝里再敢蹦个“不”字，尼康就要被管杀不管埋了。

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